梳状滤波器是一种光滤波器，利用了介质涂层，其中折射率至少在一部分结构中是连续变化的（而不是分布变化）。这种装置也称为渐变折射率滤波器，为了与常规的分布滤波器分离开。 

最简单的情况是折射率是正弦振荡的，对某窄波长区域的光反射。透射得到陷波滤波器，可以阻挡某些波长范围的光，而反射得到带通滤波器。这种滤波器可以用在拉曼光谱学中用作激光器拦截器。也可以将多个反射带结合一起得到多陷波滤波器。 

图1：梳状陷波滤波器的折射率曲线。 

图2：梳状陷波滤波器的透射谱，其折射率曲线如图1. 光纤布拉格光栅理论上可看做梳状滤波器。 

制备梳状滤波器 

可以采用多种技术得到折射率连续变化的介质涂层： — 最常用的方法是将两种不同的涂层材料以不同比例混合一起。然后，可以采用双电子束同时蒸发或者类似的方法（电子加热或离子束溅射），材料对可以是 ZrO2 / MgO, ZrO2 / SiO2, Ta2O5 / TiO2 or TiO2 / SiO2。根据具体的生长条件（组分，饱和温度等），可以得到多晶或者非晶结构。 — 对于有些涂层材料，例如TiO2，在气体沉积过程中可以改变填充密度，例如，可以通过控制氧分压或者通过斜向沉积。填充密度会直接影响折射率。这项技术也可以应用到多孔硅梳状滤波器中。 

精确控制折射率得到渐变折射率结构是非常困难的。为了得到很高的精度，需要采用自动的计算机控制，需要采用在线生长控制和复杂的算法。在生长中如果检测到与目标值偏离，接下来结构会自动改变，尽早补偿产生的错误。 

梳状滤波器的光学性质 

与采用普通介质涂层的滤波器相比，梳状滤波器具有一些独特的性质： — 折射率的正弦振荡在反射光谱中产生一个单独的峰，不存在普通布拉格反射镜中的边带，这些边带来自于矩形振荡中的高阶傅里叶成分。但是这种类型的干净滤波器还需要两个额外的条件：需要避免端口的附加反射和孔障。 — 可以将折射率的多次振荡线性叠加将多次反射结合。 — 与普通滤波器相比，梳状滤波器具有很高的损伤阈值。 

分析、设计和优化梳状滤波器 

理论上分析梳状滤波器时，可将渐变折射率涂层结构近似看做具有很多层的分布结构，这时每一层间的折射率变化很小。因此，常规的分布结构的软件原则上在这里可以采用。但是，需要处理很多层结构，并且需要采用一些方法来表征结构，因为不可能在软件中输入成百上千个折射率值。可以采用一系列参数，例如，介质折射率，振荡振幅，孔障参数等来自动计算整个结构的性质。另外有时需要将梳状结构与抗反射涂层结合一起。 

通过分析设计可以得到简单的滤波器曲线。对于更加复杂的设计，可以采用逆傅里叶变换方法，利用了至少在低反射率时，反射光谱与空间折射率的傅里叶变换有关的事实。这种方法可以经过改进用于高反射率的情况。 

还有其他的技术可以数值优化梳状滤波器。通常不需要优化单层厚度值（分布折射率结构中常用），而是需要优化折射率曲线的细节。最简便的方法根据之前提到的将结构参数化。因此可以改变这些参数，例如最小化评价函数，它是评价远离所需的光学性质程度的函数。